SCMOS相机 光束分析仪 DMD 光纤束 合束激光器 共焦 拉曼光谱仪 锁相放大器 无掩膜光刻机 高光谱相机
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,①带电粒子无掩模光刻:电子束直写工艺过程、离子束直写工艺过程等;②光学无掩模光刻:激光直写、干涉光刻工艺过程等。 ...
光实现的一种无掩模光刻工艺。常用于周期图形的制备,如周期性光栅、孔阵、点阵、柱阵等图形。 ...
图示1、何为无掩模光刻?无掩膜光刻即不采用光刻掩模板的光刻技术。在传统光刻过程中,需要采用光学照射掩模版的方式将图案转移到掩模版上;而在无掩模光刻中,对目标图案的转印不需要掩模版,而是通过电子束或光学的方式直接在基片上制作出所需要的图案,这种方式避免了传统方式制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺点。2、何为DMD无掩模光刻?DMD无掩模光刻是光学无掩模光刻技术的一种,该技术使用数字DMD代替传统的掩模,借助于DMD对常规掩膜予以取代而展开光刻成像,借助DMD对光源展开反射式调制,把涉及的虚拟数字掩膜移至硅晶圆基片,进而进行曝光。DMD无掩模光刻系统本质上是一种高精度加工平台,如下图所示,主要 ...
ce)的全新无掩模光刻系统,因此SP-UV可以兼容所有标准的微电子光刻胶,包括微流体应用中不可或缺的i-line光阻剂SU-8。这一特点为半导体加工领域的开发人员,在光刻胶材料的选择上提供了更加广阔的空间。DMD无掩膜光刻机SP-UV的优势之一是对DMD光学投影技术的应用。这一技术在提高直写精度和速度的同时,提供了四种不同的直写分辨率。搭配Microlight3D的“快速切换”物镜系统,仅需2秒就能完成分辨率切换。Microlight3D首席执行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技术可以与更广泛光刻胶材料相兼容。在为无掩模光刻的应用开拓了新的领域的同时,满 ...
使用DMD的无掩模光刻的论文。利用DMD的生产系统已经由多家原始设备制造商推出。 通常,这些工具选择使用多个中到高分辨率DMD以实现高数据吞吐量,并在365-410nm范围内工作。典型工作条件是在DMD上的3-5W / cm2 照明,温度保持在30°C以下。 基于这些条件,制造商已经能够将DMD系统稳定运行。设备在 UV-A 范围内的 3.4W/cm2 、25°C条件下始终表现出超过 3000 小时的运行时间。生产合格的UV DMD中使用的标准UV窗口具有320-400nm的可用透射率区间。为了在低于此值的波长下测试和操作设备,需要一个低于320nm的高透射率的特殊窗口。DMD技术概述DMD是 ...
D投影技术的无掩模光刻设备,可兼容多种电阻和基片。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状,而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术,投影出具有微米分辨率的图像。DMD无掩模光刻机最后便会在一整片晶圆上完成很多 IC 芯片,接下来只要将完成的方形 IC 芯片剪下,便可送到封装厂做封装。最后,对产生的芯片质量检测可利用该款产品进行操作。脉宽可调纳秒激光器(芯片缺陷检测用)您可以通过我们的官方网站了解更多的产品信息,或直接来电咨询4006-888-532。 ...
3D DMD无掩模光刻机独家代理。宝马bm555线路自2023年1月1日正式成为Microlight3D公司SMART PRINT UV系列DMD无掩光刻系统的中国区独家代理商,此次获得Microlight3D的授权,体现了Microlight3D对宝马bm555线路市场销售的专业度及售后技术支持力量的高度认可。我们将一如既往的为国内广大用户提供更为优质的服务。Microlight3D成立于2016年,在格勒诺布尔阿尔卑斯大学(Université Grenoble Alpes,UGA)进行了长达15年的3D微型打印技术研发。格勒诺布尔阿尔卑斯大学创建于1339年,是一所拥有近七百 ...
单光子相机,无掩模光刻机。在线椭偏仪,在线膜厚测量仪,在线拉曼光谱成像,在线荧光寿命成像,在线荧光光谱成像,自动化光电流成像,超分辨光学微球显微镜、锁相放大器、激光干涉仪,高频激振器,TDTR,266nm窄线宽激光器,波前传感器,激光光束分析仪,激光位置和指向稳定系统,多通道声光调制器AOMC,声光偏转器AODF,非球面匀化镜。2940nm铒激光器,2020nm铥激光器,激光光束分析仪,非球面匀化镜,调温式热封机VTS,混频器,激光传能光纤,激光功率计,生物电阻抗断层成像仪,医用激光光纤(紫外-中红外),医用光纤温度传感器,医用光纤压力传感器 温度解调系统,时域红外光谱仪,扫频激光器,法珀腔医 ...
;2、DMD无掩模光刻系统产品介绍及设备展示;3、现场demo演示;4、参会人员提问环节。产品介绍:microFAB-3D是一款基于双光子聚合激光直写技术的超高分辨率3D打印系统,最小特征尺寸<200nm,加工的物体高度最高可达20mm,打印速度可至5mm/s,表面粗糙度<20nm,双波长激光器(532nm和1064nm),拥有大行程XY 电动载物台, 拼接误差低至200nm,系统极具紧凑性(相比同类产品尺寸小至少3倍)。为微流体、微机器人、微机械、细胞培养、医用微型装置、组织工程学、微纳光学以及超材料等开辟了新的应用前景!报名方式:扫描下方二维码报名↓关于宝马bm555线路:宝马bm555线路是 ...
辨率,适用于无掩模光刻、激光直写LDI、数字平板印刷、SLA 3D打印、单像素3D成像、波前整形、生物显微成像和压缩感知鬼成像。3. 高精度定制型光纤束宝马bm555线路提供各种光纤束,并根据要求为客户定制各种光纤束。可选的标准接口及护套铠甲。40,000小时不间断测试实验表明我们光纤束可以长期保持透过率稳定。此外,传统的光纤束均采用环氧胶来交合光纤,这一方式使光纤束的传输效率变得非常低,我们PowerLightGuide FUSED-ENDBUNDLES 抗紫外光纤束(Optran® UVNS光纤)则采用输入端熔融工艺从而减小光纤间的空隙,极大的提供光纤束的透过效率。在保持光纤的NA不变的情况下,Po ...
DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光刻设备,可兼容多种光刻胶和基材。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状,而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术,投影出具有微米分辨率的图像,无掩模光刻机SmartPrint无需任何进一步步骤,就能直接从数字掩模光刻出您要的图。无掩模光刻机SmartPrint主要应用是MEMS, 微流体,二维材料,自旋电子学,生物技术和微电子等领域光刻表面微纳图案。主要特性:兼容SU-8、i、h、g线、AZ系统和宽带光刻胶等SmartPrint-UV ...
D机器视觉,无掩模光刻应用的DLP光学引擎产品,DLP光学引擎使用TI高端芯片,DLP光学引擎结合n-Vision专有设计及高质量光学技术为您的科研及工业需求保驾护航。目前宝马bm555线路提供的DLP光学引擎产品表:全新单色DLP光学引擎——STAR 3.0 ESTAR 3.0 EVM DLP光学引擎采用新的USB3.0 数据接口替代 STAR 2.0 的USB2.0数据接口,来实现设备的连接、图片下载、同步及显示, 且新的STAR 3.0 EVM光学引擎支持 V-7001VIS/UV,V-650L NIR,V-6501VIS 这三个型号的DMD空间光调制模块,极大的提升了产品性能,满足客户对更高性能 ...
DLP/DMD光刻照明光源宝马bm555线路新推出LumiDLP光刻照明光源通过大面积提供高度均匀的通量密度为紫外DLP应用提供前所未有的速度和分辨率。模块化设备结合了密集封装的UV-LED阵列成为一种高效、非成像采集光学设备,集成了远心成像光学优化DLP芯片组。这款DMD光刻光源为基于DLP技术的具有挑战性的曝光应用提供出色的UV-LED照明。特别是要求蕞高强度和多波长光谱的设置非常适合。数值孔径为0.2(光束角度±12°)和非常高的照明均匀性、这些构成DLP-芯片曝光的完美解决方案。DLP/DMD照明器提供高达30W的光辐射功率。单波长和多波长设置可供选择(365nm、385nm、395nm、405 ...
辨率,适用于无掩模光刻、激光直写LDI、数字平板印刷、SLA 3D打印、单像素3D成像、波前整形、生物显微成像和压缩感知鬼成像。关键词: 紫外DMD,紫外DMD数字微镜阵列,紫外DMD空间光调制器,数字光处理,TI DLP® Discovery™4100&DLPC910开发套件,DMD芯片,数字光投影 紫外高分辨率高速DMD空间光调制器提供灵活的控制,能适用于各种相关应用。利用DLP®Discovery 4100&DLPC910芯片组61Gbit/s的带宽特性,全分辨率帧频可高达22.727kHz。通用高性能编程开发工具ALP4.3支持只使用部分像元,可实现高达50kHz ...
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